【洞察】高性能球硅应用于M6级以上高速覆铜板 市场需求持续增长

智车科技

3周前

由于终端市场对高频高速覆铜板、含IC载板在内的先进HDI基板等当前覆铜板领域具有较高技术水平,且代表未来技术发展方向的先进覆铜板需求增长态势显著,能够应用于高频高速覆铜板、IC载板等先进覆铜板的高性能球形硅微粉,特别是能够应用于更高技术等级的直燃法/VMC原理或化学合成法制备的高性能球硅,在整体覆铜板上下游产业链波动的背景下,依然保持良好增长态势。

目前,基于表面改性、粒径、纯度和粉体形貌优势等优势,高频高速、HDI基板等较高技术等级的M6级以上高速覆铜板一般都采用经改性后的高性能球硅。

球硅是球形硅微粉的简称,指球体形态的二氧化硅粉体。球硅生产工艺有火焰法、直燃/VMC法、化学法。其中,火焰法球硅指采用火焰熔融的方式球化,并经一系列工序生产而成的球形硅微粉;直燃法球硅指采用VMC(Vaporized Metal Combustion)原理进行球化,并经一系列工序生产而成的球形硅微粉;化学法球硅指采用化学合成的方法进行球化,并经一系列工序生产而成的球形硅微粉。

高性能球硅通常为中位粒径3μm以下,经表面改性后的粉体,一般采用直燃法或化学法制成。火焰法球硅无法完全满足M6级以上高速覆铜板的性能需求,一般还会选择添加直燃法/VMC原理或化学合成法制备的球硅。目前,基于表面改性、粒径、纯度和粉体形貌优势等优势,高频高速、HDI基板等较高技术等级的M6级以上高速覆铜板一般都采用经改性后的高性能球硅。

高性能球硅与不同类型树脂结合,可赋予高频高速覆铜板、HDI基板和类载板、IC载板等高性能覆铜板较好电性能,包括理想介电常数和极低介质损耗;作为芯片底部填充胶材料,降低胶体CTE,提升胶体流动性和粘接力等多重性能。

近几年来,由于终端市场对高频高速覆铜板、含IC载板在内的先进HDI基板等当前覆铜板领域具有较高技术水平,且代表未来技术发展方向的先进覆铜板需求增长态势显著,能够应用于高频高速覆铜板、IC载板等先进覆铜板的高性能球形硅微粉,特别是能够应用于更高技术等级的直燃法/VMC原理或化学合成法制备的高性能球硅,在整体覆铜板上下游产业链波动的背景下,依然保持良好增长态势。

随着近年来下游终端设备的性能升级,覆铜板对于各类无机功能材料的需求快速上升。其中,高性能球硅所占的比例逐年扩大,根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年高性能球硅行业深度市场调研及投资策略建议报告》,2025年,应用于覆铜板领域的各类硅微粉中,高性能球形硅微粉的占比超过50%。

在制备技术方面,目前国内厂商主要占据火焰法球硅微市场,大部分产品档次较低。而近年来日本厂商如日本雅都玛等通过调整产品重心,收缩火焰法球硅产能和研发投入,将产能和研发重心聚焦于VMC法等球形硅上,逐步占领高性能球硅市场。此外,国内部分厂商如苏州锦艺新材料科技股份有限公司加大研发投入,成为能够同时提供多种制备原理,且满足覆铜板等高技术标准的高性能球硅供应商。

新思界产业研究院

新思界致力做全面、专业的产业研究平台,建立以市场调查、行业研究、规划咨询等为核心的国内业务体系,以海外市场调查、海外公司选址与注册等为核心的海外业务体系为客户提供全方位的国内外产业咨询服务。

原文标题 : 【洞察】高性能球硅应用于M6级以上高速覆铜板 市场需求持续增长

由于终端市场对高频高速覆铜板、含IC载板在内的先进HDI基板等当前覆铜板领域具有较高技术水平,且代表未来技术发展方向的先进覆铜板需求增长态势显著,能够应用于高频高速覆铜板、IC载板等先进覆铜板的高性能球形硅微粉,特别是能够应用于更高技术等级的直燃法/VMC原理或化学合成法制备的高性能球硅,在整体覆铜板上下游产业链波动的背景下,依然保持良好增长态势。

目前,基于表面改性、粒径、纯度和粉体形貌优势等优势,高频高速、HDI基板等较高技术等级的M6级以上高速覆铜板一般都采用经改性后的高性能球硅。

球硅是球形硅微粉的简称,指球体形态的二氧化硅粉体。球硅生产工艺有火焰法、直燃/VMC法、化学法。其中,火焰法球硅指采用火焰熔融的方式球化,并经一系列工序生产而成的球形硅微粉;直燃法球硅指采用VMC(Vaporized Metal Combustion)原理进行球化,并经一系列工序生产而成的球形硅微粉;化学法球硅指采用化学合成的方法进行球化,并经一系列工序生产而成的球形硅微粉。

高性能球硅通常为中位粒径3μm以下,经表面改性后的粉体,一般采用直燃法或化学法制成。火焰法球硅无法完全满足M6级以上高速覆铜板的性能需求,一般还会选择添加直燃法/VMC原理或化学合成法制备的球硅。目前,基于表面改性、粒径、纯度和粉体形貌优势等优势,高频高速、HDI基板等较高技术等级的M6级以上高速覆铜板一般都采用经改性后的高性能球硅。

高性能球硅与不同类型树脂结合,可赋予高频高速覆铜板、HDI基板和类载板、IC载板等高性能覆铜板较好电性能,包括理想介电常数和极低介质损耗;作为芯片底部填充胶材料,降低胶体CTE,提升胶体流动性和粘接力等多重性能。

近几年来,由于终端市场对高频高速覆铜板、含IC载板在内的先进HDI基板等当前覆铜板领域具有较高技术水平,且代表未来技术发展方向的先进覆铜板需求增长态势显著,能够应用于高频高速覆铜板、IC载板等先进覆铜板的高性能球形硅微粉,特别是能够应用于更高技术等级的直燃法/VMC原理或化学合成法制备的高性能球硅,在整体覆铜板上下游产业链波动的背景下,依然保持良好增长态势。

随着近年来下游终端设备的性能升级,覆铜板对于各类无机功能材料的需求快速上升。其中,高性能球硅所占的比例逐年扩大,根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年高性能球硅行业深度市场调研及投资策略建议报告》,2025年,应用于覆铜板领域的各类硅微粉中,高性能球形硅微粉的占比超过50%。

在制备技术方面,目前国内厂商主要占据火焰法球硅微市场,大部分产品档次较低。而近年来日本厂商如日本雅都玛等通过调整产品重心,收缩火焰法球硅产能和研发投入,将产能和研发重心聚焦于VMC法等球形硅上,逐步占领高性能球硅市场。此外,国内部分厂商如苏州锦艺新材料科技股份有限公司加大研发投入,成为能够同时提供多种制备原理,且满足覆铜板等高技术标准的高性能球硅供应商。

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