MEMS制造关键设备和材料

MEMS

3周前

与集成电路(IC)相比,微机电系统(MEMS)的衬底材料丰富多样,(例如硅、玻璃、塑料、纸、金属等,其中,硅晶圆包括氧化硅片、SOI硅片、高阻硅片,以及特殊厚度与高精度硅片),并且芯片存在可动的机械结构(例如悬臂梁、振膜、梳齿、转镜、弹簧等),从而使得MEMS制造设备具有一些特殊性,例如双面光刻机、深硅刻蚀机、晶圆键合机。

据麦姆斯咨询报道,2024年10月18日至20日,苏州美图半导体技术有限公司创始人兼总经理王云翔将参加《第66期“见微知著”培训课程:MEMS制造工艺》并进行授课,具体信息如下:

授课主题:MEMS制造关键设备和材料

授课老师简介:

王云翔,在中国科学院微电子所攻读硕士期间从事先进光刻机技术的研究,承担多项国家科研项目,包括国家自然科学基金项目“纳米电子束曝光中的散射参数模型研究”项目主要成员,批准号60276019;国家973重大基础研究项目“20-50纳米器件的关键工艺技术基础研究和器件制备”电子束光刻工艺承担人;国家863计划“新一代无线通信用SAW器件及材料研究”器件制备工艺承担人。他曾先后担任上海微电子装备有限公司技术经理、德国SUSS MicroTec公司销售经理、美国Ziptronix公司中国区首席代表。2012年创办苏州美图半导体技术有限公司,研发并商业化中国第一台晶圆键合设备;创办苏州研材微纳科技有限公司,成为中国第一个微细加工材料平台,提供各类硅片、光刻胶、衬底及耗材,进行过多种关键工艺研发,帮助客户实现各类器件开发。

授课背景及内容:

与集成电路(IC)相比,微机电系统(MEMS)的衬底材料丰富多样,(例如硅、玻璃、塑料、纸、金属等,其中,硅晶圆包括氧化硅片、SOI硅片、高阻硅片,以及特殊厚度与高精度硅片),并且芯片存在可动的机械结构(例如悬臂梁、振膜、梳齿、转镜、弹簧等),从而使得MEMS制造设备具有一些特殊性,例如双面光刻机、深硅刻蚀机、晶圆键合机。由于MEMS关键设备的技术壁垒高,目前核心话语权仍掌握在国外巨头手中,不过,越来越多的国内企业已开始崭露头角,逐渐实现国产替代。本课程从典型MEMS制造工艺出发,为学员们分析MEMS与IC对制造设备和材料的需求差异,细致讲解MEMS制造关键设备和材料的相关知识:从原理到应用。

课程提纲:1. MEMS制造工艺概述;
2. MEMS与IC对制造设备和材料的需求分析;
3. MEMS制造主要衬底材料(硅、玻璃、金属、塑料、陶瓷等);
4. MEMS制造主要光刻材料(光刻胶、显影液);
5. MEMS制造主要刻蚀材料(湿法腐蚀液、干法刻蚀气体材料);
6. MEMS制造主要薄膜材料(靶材、蒸发源、CVD气体材料、有机材料);
7. MEMS制造主要特殊设备(双面光刻机、喷胶机、深硅刻蚀机、键合机);
8. 全球MEMS制造关键设备和材料供应商情况。

培训详情:https://www.memstraining.com/training-66.html

与集成电路(IC)相比,微机电系统(MEMS)的衬底材料丰富多样,(例如硅、玻璃、塑料、纸、金属等,其中,硅晶圆包括氧化硅片、SOI硅片、高阻硅片,以及特殊厚度与高精度硅片),并且芯片存在可动的机械结构(例如悬臂梁、振膜、梳齿、转镜、弹簧等),从而使得MEMS制造设备具有一些特殊性,例如双面光刻机、深硅刻蚀机、晶圆键合机。

据麦姆斯咨询报道,2024年10月18日至20日,苏州美图半导体技术有限公司创始人兼总经理王云翔将参加《第66期“见微知著”培训课程:MEMS制造工艺》并进行授课,具体信息如下:

授课主题:MEMS制造关键设备和材料

授课老师简介:

王云翔,在中国科学院微电子所攻读硕士期间从事先进光刻机技术的研究,承担多项国家科研项目,包括国家自然科学基金项目“纳米电子束曝光中的散射参数模型研究”项目主要成员,批准号60276019;国家973重大基础研究项目“20-50纳米器件的关键工艺技术基础研究和器件制备”电子束光刻工艺承担人;国家863计划“新一代无线通信用SAW器件及材料研究”器件制备工艺承担人。他曾先后担任上海微电子装备有限公司技术经理、德国SUSS MicroTec公司销售经理、美国Ziptronix公司中国区首席代表。2012年创办苏州美图半导体技术有限公司,研发并商业化中国第一台晶圆键合设备;创办苏州研材微纳科技有限公司,成为中国第一个微细加工材料平台,提供各类硅片、光刻胶、衬底及耗材,进行过多种关键工艺研发,帮助客户实现各类器件开发。

授课背景及内容:

与集成电路(IC)相比,微机电系统(MEMS)的衬底材料丰富多样,(例如硅、玻璃、塑料、纸、金属等,其中,硅晶圆包括氧化硅片、SOI硅片、高阻硅片,以及特殊厚度与高精度硅片),并且芯片存在可动的机械结构(例如悬臂梁、振膜、梳齿、转镜、弹簧等),从而使得MEMS制造设备具有一些特殊性,例如双面光刻机、深硅刻蚀机、晶圆键合机。由于MEMS关键设备的技术壁垒高,目前核心话语权仍掌握在国外巨头手中,不过,越来越多的国内企业已开始崭露头角,逐渐实现国产替代。本课程从典型MEMS制造工艺出发,为学员们分析MEMS与IC对制造设备和材料的需求差异,细致讲解MEMS制造关键设备和材料的相关知识:从原理到应用。

课程提纲:1. MEMS制造工艺概述;
2. MEMS与IC对制造设备和材料的需求分析;
3. MEMS制造主要衬底材料(硅、玻璃、金属、塑料、陶瓷等);
4. MEMS制造主要光刻材料(光刻胶、显影液);
5. MEMS制造主要刻蚀材料(湿法腐蚀液、干法刻蚀气体材料);
6. MEMS制造主要薄膜材料(靶材、蒸发源、CVD气体材料、有机材料);
7. MEMS制造主要特殊设备(双面光刻机、喷胶机、深硅刻蚀机、键合机);
8. 全球MEMS制造关键设备和材料供应商情况。

培训详情:https://www.memstraining.com/training-66.html

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