11月12日消息，据韩媒报道，半导体光刻胶巨头日本JSR于11月12日在韩国忠清北道清州举行MOR（注：金属氧化物）光刻胶生产基地的奠基仪式。
该生产基地由JSR在韩子公司JSR Micro Korea建设，将生产可用于EUV光刻的MOR光刻胶，目标2026年建成投产。这也是韩国境内的首个同类光刻胶工厂。
适用于EUV制程的MOR光刻胶能够替代低端化学放大光刻胶，在确保超精细工艺的竞争力方面发挥着关键作用。JSR Micro Korea新工厂有望直接向韩国本土两大半导体制造巨头三星电子、SK海力士供货，保证光刻胶供应稳定可靠。
JSR在今年8月30日的相关新闻稿中还提到，该企业计划今年秋天起在日本关东地区建设一个新的 MOR 研发基地，作为日本三重县四日市现有精密电子开发中心的补充，以强化同全球客户与伙伴的交流合作。
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适用于EUV制程的MOR光刻胶能够替代低端化学放大光刻胶，在确保超精细工艺的竞争力方面发挥着关键作用。JSR Micro Korea新工厂有望直接向韩国本土两大半导体制造巨头三星电子、SK海力士供货，保证光刻胶供应稳定可靠。
JSR在今年8月30日的相关新闻稿中还提到，该企业计划今年秋天起在日本关东地区建设一个新的 MOR 研发基地，作为日本三重县四日市现有精密电子开发中心的补充，以强化同全球客户与伙伴的交流合作。
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