据麦姆斯咨询报道，2024年11月1日至3日，杭州欧光芯科技有限公司创始人兼CEO张琬皎将参加《第65期“见微知著”培训课程：光学超构表面及应用》并进行授课，具体信息如下：

授课主题：纳米压印光刻及超构表面量产工艺

授课老师简介：

张琬皎，博士，浙江省海外高层人才、教授级高级工程师、杭州欧光芯科技有限公司创始人兼CEO、国科大杭州高等研究院物理与光电工程学院研究生导师。她毕业于德国亚琛工业大学，获得博士学位，师承欧洲纳米压印鼻祖Heinrich Kurz教授，作为国际上最早研究纳米压印光刻量产技术的团队成员之一，开发出世界第一台紫外软膜纳米压印设备及配套工艺。她从事纳米压印光刻技术等领域的研究工作近20年，开发了纳米压印工艺在太阳能电池、LED、DFB激光芯片、AR光波导、衍射光学元件、微透镜、超构透镜等产品中的应用以及多种纳米压印材料。为促进国内纳米压印技术的产业化发展，打破国外垄断，她2018年回国创业，在杭州建成了全国首条以纳米压印为核心的生产线，开发出了纳米孔生物芯片、匀光片、AR镜片、超构透镜等多款产品，实现了该产品从设备、材料到量产工艺的全面国产化。她曾获得中国（杭州）海外人才创新创业项目大赛一等奖，“纳米之星”创新创业大赛长三角赛区二等奖。她主持或参与了国家自然科学基金、重点研发计划、中科院项目及企业横向等多项科研项目，获得研究成果二十余项，曾受聘为中国科协海智计划特聘专家。

授课背景及内容：

纳米压印光刻（NIL）是一种具有纳米级精度的先进光刻技术，可用于大面积制造分辨率达亚十纳米（sub-10 nm）的结构，曾被美国麻省理工科技周刊评为“将改变世界的十大新兴技术之一”。近些年，纳米压印技术开始越来越多的被应用在微纳光学领域，例如衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列、增强现实（AR）眼镜、线栅偏振片及超构表面等。最近，通过将TiO₂纳米颗粒嵌入NIL树脂中，研究人员制备出可用于光学超构表面的高折射率NIL树脂。这使得单步制造在可见光波长下工作的超构表面成为可能。本次课程将介绍纳米压印光刻技术、国内外最新进展、工艺流程以及该技术在不用材料的超构表面量产中的应用，如非晶硅、氮化硅、二氧化钛、高折射率压印胶等，同时也会分享团队如何实现基于纳米压印光刻的8英寸晶圆级超构表面量产工艺流程。

课程提纲：1. 纳米压印光刻技术概述及国内外进展；
2. 纳米压印光刻工艺流程；
3. 纳米压印光刻模具制作；
4. 纳米压印光刻设备及材料；
5. 基于纳米压印光刻的近红外超构表面量产工艺；
6. 基于纳米压印光刻的可见光超构表面量产工艺；
7. 纳米压印光刻在超构表面中的应用展望。

培训详情：https://www.memstraining.com/training-65.html

据麦姆斯咨询报道，2024年11月1日至3日，杭州欧光芯科技有限公司创始人兼CEO张琬皎将参加《第65期“见微知著”培训课程：光学超构表面及应用》并进行授课，具体信息如下：

授课主题：纳米压印光刻及超构表面量产工艺

授课老师简介：

张琬皎，博士，浙江省海外高层人才、教授级高级工程师、杭州欧光芯科技有限公司创始人兼CEO、国科大杭州高等研究院物理与光电工程学院研究生导师。她毕业于德国亚琛工业大学，获得博士学位，师承欧洲纳米压印鼻祖Heinrich Kurz教授，作为国际上最早研究纳米压印光刻量产技术的团队成员之一，开发出世界第一台紫外软膜纳米压印设备及配套工艺。她从事纳米压印光刻技术等领域的研究工作近20年，开发了纳米压印工艺在太阳能电池、LED、DFB激光芯片、AR光波导、衍射光学元件、微透镜、超构透镜等产品中的应用以及多种纳米压印材料。为促进国内纳米压印技术的产业化发展，打破国外垄断，她2018年回国创业，在杭州建成了全国首条以纳米压印为核心的生产线，开发出了纳米孔生物芯片、匀光片、AR镜片、超构透镜等多款产品，实现了该产品从设备、材料到量产工艺的全面国产化。她曾获得中国（杭州）海外人才创新创业项目大赛一等奖，“纳米之星”创新创业大赛长三角赛区二等奖。她主持或参与了国家自然科学基金、重点研发计划、中科院项目及企业横向等多项科研项目，获得研究成果二十余项，曾受聘为中国科协海智计划特聘专家。

授课背景及内容：

纳米压印光刻（NIL）是一种具有纳米级精度的先进光刻技术，可用于大面积制造分辨率达亚十纳米（sub-10 nm）的结构，曾被美国麻省理工科技周刊评为“将改变世界的十大新兴技术之一”。近些年，纳米压印技术开始越来越多的被应用在微纳光学领域，例如衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列、增强现实（AR）眼镜、线栅偏振片及超构表面等。最近，通过将TiO₂纳米颗粒嵌入NIL树脂中，研究人员制备出可用于光学超构表面的高折射率NIL树脂。这使得单步制造在可见光波长下工作的超构表面成为可能。本次课程将介绍纳米压印光刻技术、国内外最新进展、工艺流程以及该技术在不用材料的超构表面量产中的应用，如非晶硅、氮化硅、二氧化钛、高折射率压印胶等，同时也会分享团队如何实现基于纳米压印光刻的8英寸晶圆级超构表面量产工艺流程。

课程提纲：1. 纳米压印光刻技术概述及国内外进展；
2. 纳米压印光刻工艺流程；
3. 纳米压印光刻模具制作；
4. 纳米压印光刻设备及材料；
5. 基于纳米压印光刻的近红外超构表面量产工艺；
6. 基于纳米压印光刻的可见光超构表面量产工艺；
7. 纳米压印光刻在超构表面中的应用展望。

培训详情：https://www.memstraining.com/training-65.html