AI数据中心供电变革:固态变压器(SST)与800V HVDC架构
随着AI大模型训练与推理需求爆发,单机柜功率正从传统200kW向1MW以上迈进。英伟达为推动GB200等新一代芯片的部署,主导定义了800V高压直流(HVDC)供电架构,并明确自2026年起,适配GB300系列算力集群的智算中心需采用固态变压器(SST)实现10kV交流至800V直流的直接变换,否则无法获得官方适配与支持。
传统工频变压器(50/60Hz)体积大、重量重(常达20吨级),且转换环节多、损耗高,已难以支撑兆瓦级算力集群的物理与经济需求。而基于碳化硅(SiC)的量产级SST,体积重量可缩减至传统方案的1/4~1/6,功率密度提升4倍以上,全链路损耗降低70%+,转换效率最高达98.8%,同时集成调压、谐波抑制、故障隔离等功能,还可省去3级以上转换环节,链路成本降低40%。
目前SST已进入算力基建落地阶段:台达电子与美团、秦淮数据2025年11月联合发布全球首个算力中心SST智能直流供电系统,已落地秦淮数据中心产业园;此外,纳微、麦格米特、阳光电源、金盘科技、四方股份、特锐德等国内外厂商均在深度布局SST产品或相关功率方案,海外如伊顿、SolarEdge、Heron Power等也在推进碳化硅基SST的研发与产能建设。
据行业统计,2025年全球AI数据中心SST市场规模约0.36亿美元,预计2032年达7.04亿美元,2026-2032年CAGR为31.2%;AI电源将占到2030年碳化硅电源市场的50%。
碳化硅的两大新兴增量市场:先进封装与AR终端
除电源领域的变革外,碳化硅在先进封装与AR终端硬件领域也开辟了新增量:
1. 先进封装:散热与中介层替代
随着算力芯片功率上升,台积电CoWoS封装面临热管理与结构刚性瓶颈——硅中间层热导率仅130 W/(mK),玻璃中间层热导率更低(逻辑芯片温度比硅基高约14℃),金刚石虽热导率高但制造工艺不成熟。碳化硅热导率达490 W/(mK),莫氏硬度9.5(远高于硅的7),带隙3.2eV,击穿场强3.0 MV/cm,适配先进封装需求。
目前3D IC封装的碳化硅应用方向包括散热载板与半绝缘型碳化硅中介层,台积电已向部分企业提出12英寸中介层碳化硅衬底需求,2026年开启交付,明年需求预期翻倍。若75%的CoWoS封装替换为碳化硅中间层,2030年将需超369万片12英寸碳化硅衬底,对应市场规模超700亿元。国内天岳先进、晶盛机电、三安光电、南砂晶圆等均已送样或推进相关验证,海外Wolfspeed、环球晶等也在布局。
2. AR眼镜:光波导基底材料
碳化硅作为光学基底,折射率高达2.6~2.8,热导率高、莫氏硬度9~9.5,耐磨抗冲击,可满足AR眼镜大视场角、高亮度、微结构精度要求。Meta 2024年9月推出的Orion AR原型机采用碳化硅波导方案,实现约70度视场角,抑制了彩虹纹等问题。
预计2030年全球AI/AR眼镜出货量超6000万副,按每片8英寸衬底切割4副眼镜、单片4000元推算,远期AR眼镜对碳化硅衬底需求有望达600亿元。
下游扩产潮与上游供需缺口
AI、先进封装、AR等场景的需求蔓延,直接刺激全球大厂碳化硅产线投入,尤其是8英寸产线:
不完全统计,2025年9月至2026年1月,全球宣布扩产或新增的8英寸FAB线规划年产能达243.4万片(不含英飞凌、博世等未披露产能的头部厂);
具体包括:EYEQ Lab(2026年投产,初期3万片/年)、三菱电机(2025年10月竣工8英寸厂,投资约1000亿日元)、三安光电与意法半导体合资厂(2025年11月通过环保验收,全厂车规级MOSFET芯片52万片/年)、芯联集成(8寸MOSFET产线量产,2000片/月)、安森美(欧盟4.5亿补贴建捷克8英寸厂)、时代电气(2025年12月通线,新增36万片/年,总投资53亿元)、国联万众(2025年10月通线,规划6万片/年)、意法半导体卡塔尼亚厂(获欧洲投资银行10亿欧元信贷,全产能72万片/年)、士兰微(2026年1月通线,一期42万片/年,二期总72万片/年)等。
供给端方面,2025年全行业8英寸碳化硅衬底产量少于40万片,仅近半年下游宣布的新增产能即为2025年全年产量的7倍以上,供需缺口明显。衬底龙头天岳先进2025年8英寸产量少于20万片,占全行业51.3%份额,全球导电型碳化硅衬底份额达27.6%;长晶设备厂商晶升股份、晶盛机电等订单也呈好转趋势。
市场规模与行业趋势
传统碳化硅市场以汽车为主,2025年全球碳化硅衬底市场规模约12.24亿美元(约85亿元)。随着车规级碳化硅渗透率2030年有望升至20%,传统电源市场需求增长4倍达340亿元;加上AI电源(340亿元)、先进封装(740亿元)、AR终端(600亿元)的全新增量,2030年整体碳化硅衬底需求近700亿元,实现近8倍扩张,远期整体衬底市场规模有望增至2000亿元以上,行业正迎来价值重估拐点。
此前碳化硅行业依赖车规市场定价、持续下行的旧印象已被打破,AI、先进封装、AR等场景正成为核心增长驱动。
碳化硅相关公司
天岳先进:公司向客户成功交付高质量低阻P型碳化硅衬底,标志着向以智能电网为代表的更高电压领域迈进了一步。高质量低阻P型碳化硅衬底将极大加速高性能SiC-IGBT的发展进程,实现高端特高压功率器件国产化。
晶升股份:公司的主营业务为晶体生长设备的研发、生产和销售。公司的主要产品为半导体级单晶硅炉、碳化硅单晶炉、蓝宝石单晶炉、其他晶体生长设备。
300***:公司的主营业务是光伏设备、半导体设备和半导体材料的研发、生产和销售。公司的主要产品是设备及其服务、材料。
600***:公司主要从事化合物半导体材料的研发与应用,以砷化镓、氮化镓、碳化硅、磷化铟、氮化铝、蓝宝石等半导体新材料所涉及的外延片、芯片为核心主业。公司主要产品为LED外延片、LED芯片、LED车灯、射频芯片、滤波器芯片、电力电子芯片、光通讯芯片。
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作者:于晓明 执业证书编号:A0680622030012
AI数据中心供电变革:固态变压器(SST)与800V HVDC架构
随着AI大模型训练与推理需求爆发,单机柜功率正从传统200kW向1MW以上迈进。英伟达为推动GB200等新一代芯片的部署,主导定义了800V高压直流(HVDC)供电架构,并明确自2026年起,适配GB300系列算力集群的智算中心需采用固态变压器(SST)实现10kV交流至800V直流的直接变换,否则无法获得官方适配与支持。
传统工频变压器(50/60Hz)体积大、重量重(常达20吨级),且转换环节多、损耗高,已难以支撑兆瓦级算力集群的物理与经济需求。而基于碳化硅(SiC)的量产级SST,体积重量可缩减至传统方案的1/4~1/6,功率密度提升4倍以上,全链路损耗降低70%+,转换效率最高达98.8%,同时集成调压、谐波抑制、故障隔离等功能,还可省去3级以上转换环节,链路成本降低40%。
目前SST已进入算力基建落地阶段:台达电子与美团、秦淮数据2025年11月联合发布全球首个算力中心SST智能直流供电系统,已落地秦淮数据中心产业园;此外,纳微、麦格米特、阳光电源、金盘科技、四方股份、特锐德等国内外厂商均在深度布局SST产品或相关功率方案,海外如伊顿、SolarEdge、Heron Power等也在推进碳化硅基SST的研发与产能建设。
据行业统计,2025年全球AI数据中心SST市场规模约0.36亿美元,预计2032年达7.04亿美元,2026-2032年CAGR为31.2%;AI电源将占到2030年碳化硅电源市场的50%。
碳化硅的两大新兴增量市场:先进封装与AR终端
除电源领域的变革外,碳化硅在先进封装与AR终端硬件领域也开辟了新增量:
1. 先进封装:散热与中介层替代
随着算力芯片功率上升,台积电CoWoS封装面临热管理与结构刚性瓶颈——硅中间层热导率仅130 W/(mK),玻璃中间层热导率更低(逻辑芯片温度比硅基高约14℃),金刚石虽热导率高但制造工艺不成熟。碳化硅热导率达490 W/(mK),莫氏硬度9.5(远高于硅的7),带隙3.2eV,击穿场强3.0 MV/cm,适配先进封装需求。
目前3D IC封装的碳化硅应用方向包括散热载板与半绝缘型碳化硅中介层,台积电已向部分企业提出12英寸中介层碳化硅衬底需求,2026年开启交付,明年需求预期翻倍。若75%的CoWoS封装替换为碳化硅中间层,2030年将需超369万片12英寸碳化硅衬底,对应市场规模超700亿元。国内天岳先进、晶盛机电、三安光电、南砂晶圆等均已送样或推进相关验证,海外Wolfspeed、环球晶等也在布局。
2. AR眼镜:光波导基底材料
碳化硅作为光学基底,折射率高达2.6~2.8,热导率高、莫氏硬度9~9.5,耐磨抗冲击,可满足AR眼镜大视场角、高亮度、微结构精度要求。Meta 2024年9月推出的Orion AR原型机采用碳化硅波导方案,实现约70度视场角,抑制了彩虹纹等问题。
预计2030年全球AI/AR眼镜出货量超6000万副,按每片8英寸衬底切割4副眼镜、单片4000元推算,远期AR眼镜对碳化硅衬底需求有望达600亿元。
下游扩产潮与上游供需缺口
AI、先进封装、AR等场景的需求蔓延,直接刺激全球大厂碳化硅产线投入,尤其是8英寸产线:
不完全统计,2025年9月至2026年1月,全球宣布扩产或新增的8英寸FAB线规划年产能达243.4万片(不含英飞凌、博世等未披露产能的头部厂);
具体包括:EYEQ Lab(2026年投产,初期3万片/年)、三菱电机(2025年10月竣工8英寸厂,投资约1000亿日元)、三安光电与意法半导体合资厂(2025年11月通过环保验收,全厂车规级MOSFET芯片52万片/年)、芯联集成(8寸MOSFET产线量产,2000片/月)、安森美(欧盟4.5亿补贴建捷克8英寸厂)、时代电气(2025年12月通线,新增36万片/年,总投资53亿元)、国联万众(2025年10月通线,规划6万片/年)、意法半导体卡塔尼亚厂(获欧洲投资银行10亿欧元信贷,全产能72万片/年)、士兰微(2026年1月通线,一期42万片/年,二期总72万片/年)等。
供给端方面,2025年全行业8英寸碳化硅衬底产量少于40万片,仅近半年下游宣布的新增产能即为2025年全年产量的7倍以上,供需缺口明显。衬底龙头天岳先进2025年8英寸产量少于20万片,占全行业51.3%份额,全球导电型碳化硅衬底份额达27.6%;长晶设备厂商晶升股份、晶盛机电等订单也呈好转趋势。
市场规模与行业趋势
传统碳化硅市场以汽车为主,2025年全球碳化硅衬底市场规模约12.24亿美元(约85亿元)。随着车规级碳化硅渗透率2030年有望升至20%,传统电源市场需求增长4倍达340亿元;加上AI电源(340亿元)、先进封装(740亿元)、AR终端(600亿元)的全新增量,2030年整体碳化硅衬底需求近700亿元,实现近8倍扩张,远期整体衬底市场规模有望增至2000亿元以上,行业正迎来价值重估拐点。
此前碳化硅行业依赖车规市场定价、持续下行的旧印象已被打破,AI、先进封装、AR等场景正成为核心增长驱动。
碳化硅相关公司
天岳先进:公司向客户成功交付高质量低阻P型碳化硅衬底,标志着向以智能电网为代表的更高电压领域迈进了一步。高质量低阻P型碳化硅衬底将极大加速高性能SiC-IGBT的发展进程,实现高端特高压功率器件国产化。
晶升股份:公司的主营业务为晶体生长设备的研发、生产和销售。公司的主要产品为半导体级单晶硅炉、碳化硅单晶炉、蓝宝石单晶炉、其他晶体生长设备。
300***:公司的主营业务是光伏设备、半导体设备和半导体材料的研发、生产和销售。公司的主要产品是设备及其服务、材料。
600***:公司主要从事化合物半导体材料的研发与应用,以砷化镓、氮化镓、碳化硅、磷化铟、氮化铝、蓝宝石等半导体新材料所涉及的外延片、芯片为核心主业。公司主要产品为LED外延片、LED芯片、LED车灯、射频芯片、滤波器芯片、电力电子芯片、光通讯芯片。
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作者:于晓明 执业证书编号:A0680622030012