3月27日消息，在上海举行的SEMICON China 2025展会期间，国产半导体设备新秀新凯来正式发布了6大类31款新品。

具体包括了外延沉积EPI设备（峨眉山系列）、原子层沉积ALD设备（阿里山系列）、物理气相沉积PVD设备（普陀山系列）、刻蚀ETCH设备（武夷山系列）、薄膜沉积CVD设备（长白山系列）和量检测设备(包括岳麓山系列、丹霞山系列、蓬莱山系列、莫干山系列、天门山系列、沂蒙山系列和赤壁山系列和功率检测的RATE系列产品)。

新凯来工业机器有限公司工艺装备产品线总裁杜立军表示，AI、智能驾驶等产业对算力需求及增长，推动半导体装备市场稳步增长。装备新技术演进方向是更高能量控制精度、更快硬件响应速度、更大工艺窗口，以射频/等离子体场为例，预计从7纳米到3纳米的演进过程中，会有10倍的能量控制精度提升，时延从10毫秒缩短到1毫秒的硬件响应速度提升。目前新凯来基于一代工艺、一代材料、一代装备的设计理念，已经开发了刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测产品、X射线量测产品、光学量检测产品6大类工艺和量检测装备，覆盖先进逻辑和存储，支持向更先进节点演进。

以下为新凯来此次发布的产品的详细介绍:

编辑：芯智讯-浪客剑 

3月27日消息，在上海举行的SEMICON China 2025展会期间，国产半导体设备新秀新凯来正式发布了6大类31款新品。

具体包括了外延沉积EPI设备（峨眉山系列）、原子层沉积ALD设备（阿里山系列）、物理气相沉积PVD设备（普陀山系列）、刻蚀ETCH设备（武夷山系列）、薄膜沉积CVD设备（长白山系列）和量检测设备(包括岳麓山系列、丹霞山系列、蓬莱山系列、莫干山系列、天门山系列、沂蒙山系列和赤壁山系列和功率检测的RATE系列产品)。

新凯来工业机器有限公司工艺装备产品线总裁杜立军表示，AI、智能驾驶等产业对算力需求及增长，推动半导体装备市场稳步增长。装备新技术演进方向是更高能量控制精度、更快硬件响应速度、更大工艺窗口，以射频/等离子体场为例，预计从7纳米到3纳米的演进过程中，会有10倍的能量控制精度提升，时延从10毫秒缩短到1毫秒的硬件响应速度提升。目前新凯来基于一代工艺、一代材料、一代装备的设计理念，已经开发了刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测产品、X射线量测产品、光学量检测产品6大类工艺和量检测装备，覆盖先进逻辑和存储，支持向更先进节点演进。

以下为新凯来此次发布的产品的详细介绍:

编辑：芯智讯-浪客剑