中信证券:先进存储限制加码 高端存储产业链国产化有望加速

智通财经

2小时前

智通财经APP获悉,中信证券发布研报称,1月15日晚间,BIS修订了《出口管理条例》(EAR),修改DRAM先进存储定义,工艺节点仍为18nm,存储单元面积及存储密度由24年12月的1ynm变为1xnm,同时增加TSV通孔数限制,对HBM和先进DRAM的限制再加码,倒逼产业链国产化加速。

智通财经APP获悉,中信证券发布研报称,1月15日晚间,BIS修订了《出口管理条例》(EAR),修改DRAM先进存储定义,工艺节点仍为18nm,存储单元面积及存储密度由24年12月的1ynm变为1xnm,同时增加TSV通孔数限制,对HBM和先进DRAM的限制再加码,倒逼产业链国产化加速。本次限制针对制造厂商及供应链,目前设计厂商业务正常开展,该行看好高端定制存储业务,持续推荐。同时该行认为,后续在本土高端封测厂商和设备厂商的配合下,国内DRAM原厂有望突破HBM,布局相关环节的厂商有望核心受益,看好高端存储产业链国产替代。

中信证券主要观点如下:

美国对华先进存储限制再次升级,本次DRAM修改先进存储定义,工艺节点仍为18nm,存储单元面积及存储密度由24年12月的1ynm变为1xnm,同时增加TSV通孔数限制。

其中:18 纳米半间距对应的存储单元面积从24年12月的0.0019 µm2 变为0.0026µm2,存储密度是从12月的0.288Gbit/mm2变为0.2Gb/mm2(据semiconductor-digest网站,三星1x即18nm 8Gb DDR4/海力士1xnm的存储单元面积是0.0026/0.0025µm2,三星1y nm 8 Gb LPDDR4X/美光1y nm 8 Gb DDR4/海力士1x LPDDR4的存储密度分别为0.237/0.205/0.191 Gb/mm2,参数对比详见附录);单die TSV数量不超过3000个。HBM对于带宽的增加主要通过更多IO接口/更多通道数,与IO传输速率提升实现,其中IO接口与3D堆叠中的TSV通孔数量呈强正相关。管控单die的TSV数量,对于TSV提升带宽的技术路线有潜在的限制。

国产算力芯片目前配置情况:多采用HBM2/2E,相较海外落后2代以上。

HBM是能够满足AI算力芯片高速传输需求的新型存储,于2014年推出,配套算力需求持续高速增长,我们测算至2025年全球HBM容量需求将接近17亿GB,占DRAM出货总容量超10%,占DRAM市场产值超30%。国产训练算力芯片多采用HBM2或HBM2E等存储颗粒,而海外最新一代产品如NVIDIA新款AI芯片H200及B100、B200已配备HBM3E较为先进的存储颗粒。而部分AI推理卡如NVIDIA L系列在成本考量下仍搭载GDDR;此外,部分轻量级AI推理芯片或将搭配LPDDR私用,如三星计划推出的AI推理芯片Mach-1。我们认为,本次美国对华先进存储限制将会影响国内厂商对海外原厂HBM2/2E的采购(主要为三星电子和SK海力士),我们预计后续一方面国内原厂有望推出国产HBM接替海外,另一方面也存在短期将AI算力芯片配套存储从HBM降规至GDDR类或特殊DRAM可能性。

风险因素:

国产算力芯片研发进展不及预期;国产算力芯片产能不及预期;大模型迭代速度不及预期;国产半导体设备研发进展不及预期;国产存储芯片客户拓展不及预期;地缘政治风险等。

智通财经APP获悉,中信证券发布研报称,1月15日晚间,BIS修订了《出口管理条例》(EAR),修改DRAM先进存储定义,工艺节点仍为18nm,存储单元面积及存储密度由24年12月的1ynm变为1xnm,同时增加TSV通孔数限制,对HBM和先进DRAM的限制再加码,倒逼产业链国产化加速。

智通财经APP获悉,中信证券发布研报称,1月15日晚间,BIS修订了《出口管理条例》(EAR),修改DRAM先进存储定义,工艺节点仍为18nm,存储单元面积及存储密度由24年12月的1ynm变为1xnm,同时增加TSV通孔数限制,对HBM和先进DRAM的限制再加码,倒逼产业链国产化加速。本次限制针对制造厂商及供应链,目前设计厂商业务正常开展,该行看好高端定制存储业务,持续推荐。同时该行认为,后续在本土高端封测厂商和设备厂商的配合下,国内DRAM原厂有望突破HBM,布局相关环节的厂商有望核心受益,看好高端存储产业链国产替代。

中信证券主要观点如下:

美国对华先进存储限制再次升级,本次DRAM修改先进存储定义,工艺节点仍为18nm,存储单元面积及存储密度由24年12月的1ynm变为1xnm,同时增加TSV通孔数限制。

其中:18 纳米半间距对应的存储单元面积从24年12月的0.0019 µm2 变为0.0026µm2,存储密度是从12月的0.288Gbit/mm2变为0.2Gb/mm2(据semiconductor-digest网站,三星1x即18nm 8Gb DDR4/海力士1xnm的存储单元面积是0.0026/0.0025µm2,三星1y nm 8 Gb LPDDR4X/美光1y nm 8 Gb DDR4/海力士1x LPDDR4的存储密度分别为0.237/0.205/0.191 Gb/mm2,参数对比详见附录);单die TSV数量不超过3000个。HBM对于带宽的增加主要通过更多IO接口/更多通道数,与IO传输速率提升实现,其中IO接口与3D堆叠中的TSV通孔数量呈强正相关。管控单die的TSV数量,对于TSV提升带宽的技术路线有潜在的限制。

国产算力芯片目前配置情况:多采用HBM2/2E,相较海外落后2代以上。

HBM是能够满足AI算力芯片高速传输需求的新型存储,于2014年推出,配套算力需求持续高速增长,我们测算至2025年全球HBM容量需求将接近17亿GB,占DRAM出货总容量超10%,占DRAM市场产值超30%。国产训练算力芯片多采用HBM2或HBM2E等存储颗粒,而海外最新一代产品如NVIDIA新款AI芯片H200及B100、B200已配备HBM3E较为先进的存储颗粒。而部分AI推理卡如NVIDIA L系列在成本考量下仍搭载GDDR;此外,部分轻量级AI推理芯片或将搭配LPDDR私用,如三星计划推出的AI推理芯片Mach-1。我们认为,本次美国对华先进存储限制将会影响国内厂商对海外原厂HBM2/2E的采购(主要为三星电子和SK海力士),我们预计后续一方面国内原厂有望推出国产HBM接替海外,另一方面也存在短期将AI算力芯片配套存储从HBM降规至GDDR类或特殊DRAM可能性。

风险因素:

国产算力芯片研发进展不及预期;国产算力芯片产能不及预期;大模型迭代速度不及预期;国产半导体设备研发进展不及预期;国产存储芯片客户拓展不及预期;地缘政治风险等。

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