中微、新声等5家半导体企业荣获中国专利奖银奖!

芯智讯

6天前

中微公司和南昌中微半导体设备有限公司联合研发的“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”(ZL201510218357.1),成功解决了设备清洁难题,为高效生产提供了技术支持,体现了其在半导体制造设备领域的技术领先地位。

近日,第二十五届中国专利奖评选结果正式揭晓。本届金奖评选中虽未有半导体企业上榜,但银奖名单中共出现五家半导体企业的身影,展现了行业的创新活力。这五家企业分别是中微半导体设备(上海)股份有限公司、深圳新声半导体有限公司、华海清科股份有限公司、广东风华高新科技股份有限公司以及山东天岳先进科技股份有限公司。

其中四家半导体公司都是上市公司,仅深圳新声半导体有限公司一家是初创公司,也在国产滤波器领域快速崛起的行业新星。

成立仅三年的深圳新声半导体有限公司,在滤波器技术领域的创新表现亮眼,凭借“体声波谐振器”(专利号:ZL202210796817.9)荣获中国专利奖银奖。该专利技术突破了传统设计的瓶颈,通过创新实现了平坦的电极和压电薄膜结构,显著提升了谐振器的品质因数。该技术已经成功应用于手机、平板电脑、物联网设备及可穿戴设备等多种通信产品,为5G通信提供了更加稳定和高效的射频解决方案。

依靠创新力量和优秀的市场表现,新声半导体正快速跻身全球体声波谐振器技术的领先行列,成为国产滤波器领域的重要力量。

而中微公司、天岳先进、华海清科和风华高科则都是已经上市的龙头企业。

中微公司和南昌中微半导体设备有限公司联合研发的“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”(ZL201510218357.1),成功解决了设备清洁难题,为高效生产提供了技术支持,体现了其在半导体制造设备领域的技术领先地位。

碳化硅衬底供应商天岳先进则凭借“一种高平整度、低损伤大直径单晶碳化硅衬底”(专利号:ZL201811205291.2)获得银奖。不过,该公司近日表示,其正在推进港股IPO进程,借助资本市场的力量进一步推动技术研发和市场拓展。   

华海清科的“化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备”(ZL201010246628.1)填补了国内CMP设备技术空白,为高端芯片制造的关键工艺提供了可靠支持,助力国产化进程加速。

风华高科的“一种抗硫化片式电阻器及其制造方法”(ZL201810958732.X)显著提高了片式电阻器在复杂环境下的稳定性,巩固了风华高科在电子元件领域的市场地位。

据了解,中国专利奖是由国家知识产权局和世界知识产权组织共同主办的我国专利领域最高奖项,是专门奖励专利权人和发明人的国家级奖项,分为金奖、银奖和优秀奖三类。奖项评选注重知识产权创造、保护与运用,对推动技术创新和经济高质量发展具有重要意义。

对于半导体这样典型的硬科技行业而言,技术创新不仅是企业发展的核心驱动力,更是提升国际竞争力的关键。在中国专利奖的舞台上,越来越多的半导体企业通过专利技术的突破和商业化应用,展现出强劲的研发能力和发展潜力。这些努力将为中国半导体产业在全球竞争中注入源源不断的动力。

本土半导体产业的各个细分领域,内卷现象层出不穷,但无尽的内卷显然无法担起整个国产半导体产业链前行的重任,唯有投入研发、不断创新才是中国半导体行业每一个细分领域的共同出路。

编辑:芯智讯-浪客剑

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中微公司和南昌中微半导体设备有限公司联合研发的“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”(ZL201510218357.1),成功解决了设备清洁难题,为高效生产提供了技术支持,体现了其在半导体制造设备领域的技术领先地位。

近日,第二十五届中国专利奖评选结果正式揭晓。本届金奖评选中虽未有半导体企业上榜,但银奖名单中共出现五家半导体企业的身影,展现了行业的创新活力。这五家企业分别是中微半导体设备(上海)股份有限公司、深圳新声半导体有限公司、华海清科股份有限公司、广东风华高新科技股份有限公司以及山东天岳先进科技股份有限公司。

其中四家半导体公司都是上市公司,仅深圳新声半导体有限公司一家是初创公司,也在国产滤波器领域快速崛起的行业新星。

成立仅三年的深圳新声半导体有限公司,在滤波器技术领域的创新表现亮眼,凭借“体声波谐振器”(专利号:ZL202210796817.9)荣获中国专利奖银奖。该专利技术突破了传统设计的瓶颈,通过创新实现了平坦的电极和压电薄膜结构,显著提升了谐振器的品质因数。该技术已经成功应用于手机、平板电脑、物联网设备及可穿戴设备等多种通信产品,为5G通信提供了更加稳定和高效的射频解决方案。

依靠创新力量和优秀的市场表现,新声半导体正快速跻身全球体声波谐振器技术的领先行列,成为国产滤波器领域的重要力量。

而中微公司、天岳先进、华海清科和风华高科则都是已经上市的龙头企业。

中微公司和南昌中微半导体设备有限公司联合研发的“一种化学气相沉积装置及其清洁方法”(ZL201510218357.1),成功解决了设备清洁难题,为高效生产提供了技术支持,体现了其在半导体制造设备领域的技术领先地位。

碳化硅衬底供应商天岳先进则凭借“一种高平整度、低损伤大直径单晶碳化硅衬底”(专利号:ZL201811205291.2)获得银奖。不过,该公司近日表示,其正在推进港股IPO进程,借助资本市场的力量进一步推动技术研发和市场拓展。   

华海清科的“化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备”(ZL201010246628.1)填补了国内CMP设备技术空白,为高端芯片制造的关键工艺提供了可靠支持,助力国产化进程加速。

风华高科的“一种抗硫化片式电阻器及其制造方法”(ZL201810958732.X)显著提高了片式电阻器在复杂环境下的稳定性,巩固了风华高科在电子元件领域的市场地位。

据了解,中国专利奖是由国家知识产权局和世界知识产权组织共同主办的我国专利领域最高奖项,是专门奖励专利权人和发明人的国家级奖项,分为金奖、银奖和优秀奖三类。奖项评选注重知识产权创造、保护与运用,对推动技术创新和经济高质量发展具有重要意义。

对于半导体这样典型的硬科技行业而言,技术创新不仅是企业发展的核心驱动力,更是提升国际竞争力的关键。在中国专利奖的舞台上,越来越多的半导体企业通过专利技术的突破和商业化应用,展现出强劲的研发能力和发展潜力。这些努力将为中国半导体产业在全球竞争中注入源源不断的动力。

本土半导体产业的各个细分领域,内卷现象层出不穷,但无尽的内卷显然无法担起整个国产半导体产业链前行的重任,唯有投入研发、不断创新才是中国半导体行业每一个细分领域的共同出路。

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