11月1日，A股三大指数呈现出震荡调整的态势。当日收盘之时，上证指数下跌了0.24%，深成指的跌幅达到1.28%，创业板指更是下挫1.88%，而北证50指数的跌幅则高达9.61%。从全市场来看，超过4300只个股都处于下跌状态。自9月底以来，光刻机概念在市场中表现突出，涨幅较为显著。那么，今天我们就来详细剖析一下光刻机的投资逻辑。
市场回调是机会
市场回调会使股票的估值水平下降，市盈率、市净率等估值指标变得更具吸引力。巴菲特擅长寻找那些具有安全边际的投资机会，即股票价格低于其内在价值的幅度较大。回调使得市场上出现更多这样具有安全边际的股票，为巴菲特提供了更多的投资选择。
巴菲特始终认为，一个经营良好、具有长期竞争力的企业，其内在价值是稳定且不断增长的。当市场回调时，优质企业的股票价格可能会受到市场整体情绪的影响而下跌，但企业的内在价值并未改变。从长期来看，股价最终会回归到企业的内在价值水平。因此，回调为投资者提供了以低于企业内在价值的价格买入股票的机会，从而在未来获得更高的投资回报。
光刻机投资逻辑已找到！
广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。这一政策的出台，显示出政府对半导体产业关键设备的重视和支持，光刻机作为芯片制造的核心设备，自然受到市场关注，相关企业有望在政策支持下获得更多的发展机遇和资源，从而推动了光刻机板块的上涨。
近年来，中国在光刻机技术领域持续投入研发，不断取得突破。如工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中提到的氟化氩光刻机等技术突破。这些突破增强了市场对国内光刻机产业发展的信心，投资者预期国内光刻机企业的市场份额和盈利能力将逐步提升，进而推动了板块股价上涨。
国际上光刻机技术也在不断演进，一些新技术的出现或者研发进展的消息，可能会引发市场对光刻机行业未来发展的乐观预期。例如光刻机龙头企业阿斯麦（ASML）的技术研发动态和业务发展情况，对全球光刻机市场的预期有着重要影响，其相关信息的变化也可能间接影响到国内光刻机板块的走势。
半导体行业整体处于复苏的趋势中，随着人工智能、物联网、5G等新兴技术的快速发展，对芯片的需求持续增长。而光刻机是芯片制造的关键设备，芯片需求的增加必然会带动光刻机需求的增长，投资者看好光刻机行业的未来发展前景，从而推动了板块股价的上涨。
全球范围内晶圆厂的扩产计划不断增加，这将带动对光刻机等半导体设备的需求。新建晶圆厂需要大量的光刻机设备，为光刻机企业带来了更多的订单和业务机会，市场对光刻机企业的业绩增长预期提高，促使股价上涨。
机构：国内企业技术上不断突破，光刻胶领域国产替代空间巨大
中信证券认为，我国在光刻机以及半导体量/检测设备自主可控需核心光学系统达到国际一流水平，目前我国头部光学厂商已具备一定工业级超精密光学加工能力，随着国内半导体行业快速发展、设备自主可控比例提升，半导体设备光学系统具有巨大的国产替代空间。从国产替代的角度来看，国内半导体行业的发展将推动光刻机以及相关光学系统的国产替代进程加速，这为投资者提供了投资机会。国内头部光学厂商在不断提升自身能力的过程中，有望在这一领域取得更大的市场份额，其投资价值也会逐渐凸显。
光刻机是什么
光刻机是制造芯片的核心装备。光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。前道光刻机用于芯片的制造,后道光刻机主要用于封装测试。光刻胶是光刻机研发的重要材料,也是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
光刻机有哪些优势？
光刻机在半导体制造中发挥着至关重要的作用，具有显著的特征。光刻机能够以极高的精度将微小的电路图案复制到硅片上，这一过程是集成电路制造的核心技术。它集合了电子科学、计算机科学、通信技术和机械制造等多学科交叉知识，使用的曝光光源波长不断缩短，从高压汞灯的G线和I线发展到极紫外光源（EUV），使得集成电路的特征尺寸不断缩小。现代光刻机采用先进的控制技术，如精密的对准系统和测量校准过程，确保加工的精确性，并优化曝光方式，提高光刻胶敏感度，实现高吞吐量的芯片生产。光刻机特征推动了集成电路技术的发展，使芯片制造工艺不断进步，满足市场对高性能、低成本电子产品的需求。随着技术的不断进步，光刻机提升芯片性能、缩小尺寸、降低功耗和成本方面将继续发挥关键作用。
光刻机产业链如何分布？
光刻机产业链的分布广泛，从上游的原材料供应和关键组件制造，到中游的光刻胶制造和光刻机系统集成，再到下游的应用领域和终端市场。上游产业链涉及光刻胶的基础化工原料和光刻机的核心部件，如光学镜头、光源和双工件台。
中游产业链包括将原材料加工成不同应用的光刻胶产品，以及将零件组件组装成完整的光刻机，这需要精密光学、运动控制和微环境控制等技术。
下游产业链则涵盖光刻机和光刻胶在芯片制造、封装测试、电路设计等环节的应用，服务于消费电子、汽车电子、航空航天、军工和显示面板等多个行业。
光刻机相关技术发展将影响哪些领域？
光刻机相关技术的发展对多个关键领域产生深远影响。在半导体制造中，光刻技术是实现微小电路图案转移的核心，其进步直接影响集成电路的性能、尺寸和成本。医疗设备领域中，光刻技术用于制造高精度传感器和生物芯片，影响医疗诊断和治疗技术的发展。科研领域利用光刻技术制作高精度实验样品和设备。航空航天领域中，光刻技术制造高精密导航和通信设备。汽车电子领域中，光刻技术用于制造ADAS和自动驾驶相关芯片。军事和国防领域中，光刻技术制造高可靠性电子设备和传感器。绿色能源领域中，光刻技术提高太阳能电池的转换效率。光刻机技术的持续创新对推动电子信息产业的技术进步和产业升级具有重要意义。
光刻机市场潜力如何？
中信证券研报认为，光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时，美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。产业本土化趋势下，制造环节先行，认为国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
中航证券认为，光刻机作为壁垒最高、最稀缺的半导体设备，有望获得最高的溢价。光刻是芯片制造的核心工艺，占芯片制造1/2的时间+1/3的成本，光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，同时也是国内最“卡脖子”的环节。国内半导体先进制程的自主可控，光刻机攻坚势在必行。2023年ASML设备收入219亿欧元，产品相关支出为106亿欧元，以此测算，上游零部件成本占比约48%。海关数据统计，2023年国内半导体用光刻机进口金额约87.4亿美元，若供应链实现全国产替代，对应上游零部件市场空间约300亿元，考虑现有存量光刻设备的备件更换，市场空间有望进一步增大。举国之力下，光刻机产业化将逐步推进，零部件投资先行，重视光刻机产业链的投资机会。
浙商证券认为，光刻机是半导体设备国产化“最后一块拼图”，前进方向明确，当前大多数国产前道设备已进入先进工艺节点，光刻机先进突破具备确定性。当前全球半导体供应链仍处于分化的趋势，海外光刻机零部件获取的难度持续提升，尽管国内有提前储备光刻机，但并不会影响国产光刻机零部件供应链突破的步伐。
11月1日，A股三大指数呈现出震荡调整的态势。当日收盘之时，上证指数下跌了0.24%，深成指的跌幅达到1.28%，创业板指更是下挫1.88%，而北证50指数的跌幅则高达9.61%。从全市场来看，超过4300只个股都处于下跌状态。自9月底以来，光刻机概念在市场中表现突出，涨幅较为显著。那么，今天我们就来详细剖析一下光刻机的投资逻辑。
市场回调是机会
市场回调会使股票的估值水平下降，市盈率、市净率等估值指标变得更具吸引力。巴菲特擅长寻找那些具有安全边际的投资机会，即股票价格低于其内在价值的幅度较大。回调使得市场上出现更多这样具有安全边际的股票，为巴菲特提供了更多的投资选择。
巴菲特始终认为，一个经营良好、具有长期竞争力的企业，其内在价值是稳定且不断增长的。当市场回调时，优质企业的股票价格可能会受到市场整体情绪的影响而下跌，但企业的内在价值并未改变。从长期来看，股价最终会回归到企业的内在价值水平。因此，回调为投资者提供了以低于企业内在价值的价格买入股票的机会，从而在未来获得更高的投资回报。
光刻机投资逻辑已找到！
广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。这一政策的出台，显示出政府对半导体产业关键设备的重视和支持，光刻机作为芯片制造的核心设备，自然受到市场关注，相关企业有望在政策支持下获得更多的发展机遇和资源，从而推动了光刻机板块的上涨。
近年来，中国在光刻机技术领域持续投入研发，不断取得突破。如工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中提到的氟化氩光刻机等技术突破。这些突破增强了市场对国内光刻机产业发展的信心，投资者预期国内光刻机企业的市场份额和盈利能力将逐步提升，进而推动了板块股价上涨。
国际上光刻机技术也在不断演进，一些新技术的出现或者研发进展的消息，可能会引发市场对光刻机行业未来发展的乐观预期。例如光刻机龙头企业阿斯麦（ASML）的技术研发动态和业务发展情况，对全球光刻机市场的预期有着重要影响，其相关信息的变化也可能间接影响到国内光刻机板块的走势。
半导体行业整体处于复苏的趋势中，随着人工智能、物联网、5G等新兴技术的快速发展，对芯片的需求持续增长。而光刻机是芯片制造的关键设备，芯片需求的增加必然会带动光刻机需求的增长，投资者看好光刻机行业的未来发展前景，从而推动了板块股价的上涨。
全球范围内晶圆厂的扩产计划不断增加，这将带动对光刻机等半导体设备的需求。新建晶圆厂需要大量的光刻机设备，为光刻机企业带来了更多的订单和业务机会，市场对光刻机企业的业绩增长预期提高，促使股价上涨。
机构：国内企业技术上不断突破，光刻胶领域国产替代空间巨大
中信证券认为，我国在光刻机以及半导体量/检测设备自主可控需核心光学系统达到国际一流水平，目前我国头部光学厂商已具备一定工业级超精密光学加工能力，随着国内半导体行业快速发展、设备自主可控比例提升，半导体设备光学系统具有巨大的国产替代空间。从国产替代的角度来看，国内半导体行业的发展将推动光刻机以及相关光学系统的国产替代进程加速，这为投资者提供了投资机会。国内头部光学厂商在不断提升自身能力的过程中，有望在这一领域取得更大的市场份额，其投资价值也会逐渐凸显。
光刻机是什么
光刻机是制造芯片的核心装备。光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。前道光刻机用于芯片的制造,后道光刻机主要用于封装测试。光刻胶是光刻机研发的重要材料,也是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
光刻机有哪些优势？
光刻机在半导体制造中发挥着至关重要的作用，具有显著的特征。光刻机能够以极高的精度将微小的电路图案复制到硅片上，这一过程是集成电路制造的核心技术。它集合了电子科学、计算机科学、通信技术和机械制造等多学科交叉知识，使用的曝光光源波长不断缩短，从高压汞灯的G线和I线发展到极紫外光源（EUV），使得集成电路的特征尺寸不断缩小。现代光刻机采用先进的控制技术，如精密的对准系统和测量校准过程，确保加工的精确性，并优化曝光方式，提高光刻胶敏感度，实现高吞吐量的芯片生产。光刻机特征推动了集成电路技术的发展，使芯片制造工艺不断进步，满足市场对高性能、低成本电子产品的需求。随着技术的不断进步，光刻机提升芯片性能、缩小尺寸、降低功耗和成本方面将继续发挥关键作用。
光刻机产业链如何分布？
光刻机产业链的分布广泛，从上游的原材料供应和关键组件制造，到中游的光刻胶制造和光刻机系统集成，再到下游的应用领域和终端市场。上游产业链涉及光刻胶的基础化工原料和光刻机的核心部件，如光学镜头、光源和双工件台。
中游产业链包括将原材料加工成不同应用的光刻胶产品，以及将零件组件组装成完整的光刻机，这需要精密光学、运动控制和微环境控制等技术。
下游产业链则涵盖光刻机和光刻胶在芯片制造、封装测试、电路设计等环节的应用，服务于消费电子、汽车电子、航空航天、军工和显示面板等多个行业。
光刻机相关技术发展将影响哪些领域？
光刻机相关技术的发展对多个关键领域产生深远影响。在半导体制造中，光刻技术是实现微小电路图案转移的核心，其进步直接影响集成电路的性能、尺寸和成本。医疗设备领域中，光刻技术用于制造高精度传感器和生物芯片，影响医疗诊断和治疗技术的发展。科研领域利用光刻技术制作高精度实验样品和设备。航空航天领域中，光刻技术制造高精密导航和通信设备。汽车电子领域中，光刻技术用于制造ADAS和自动驾驶相关芯片。军事和国防领域中，光刻技术制造高可靠性电子设备和传感器。绿色能源领域中，光刻技术提高太阳能电池的转换效率。光刻机技术的持续创新对推动电子信息产业的技术进步和产业升级具有重要意义。
光刻机市场潜力如何？
中信证券研报认为，光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时，美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。产业本土化趋势下，制造环节先行，认为国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
中航证券认为，光刻机作为壁垒最高、最稀缺的半导体设备，有望获得最高的溢价。光刻是芯片制造的核心工艺，占芯片制造1/2的时间+1/3的成本，光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，同时也是国内最“卡脖子”的环节。国内半导体先进制程的自主可控，光刻机攻坚势在必行。2023年ASML设备收入219亿欧元，产品相关支出为106亿欧元，以此测算，上游零部件成本占比约48%。海关数据统计，2023年国内半导体用光刻机进口金额约87.4亿美元，若供应链实现全国产替代，对应上游零部件市场空间约300亿元，考虑现有存量光刻设备的备件更换，市场空间有望进一步增大。举国之力下，光刻机产业化将逐步推进，零部件投资先行，重视光刻机产业链的投资机会。
浙商证券认为，光刻机是半导体设备国产化“最后一块拼图”，前进方向明确，当前大多数国产前道设备已进入先进工艺节点，光刻机先进突破具备确定性。当前全球半导体供应链仍处于分化的趋势，海外光刻机零部件获取的难度持续提升，尽管国内有提前储备光刻机，但并不会影响国产光刻机零部件供应链突破的步伐。
11月1日，A股三大指数呈现出震荡调整的态势。当日收盘之时，上证指数下跌了0.24%，深成指的跌幅达到1.28%，创业板指更是下挫1.88%，而北证50指数的跌幅则高达9.61%。从全市场来看，超过4300只个股都处于下跌状态。自9月底以来，光刻机概念在市场中表现突出，涨幅较为显著。那么，今天我们就来详细剖析一下光刻机的投资逻辑。
市场回调是机会
市场回调会使股票的估值水平下降，市盈率、市净率等估值指标变得更具吸引力。巴菲特擅长寻找那些具有安全边际的投资机会，即股票价格低于其内在价值的幅度较大。回调使得市场上出现更多这样具有安全边际的股票，为巴菲特提供了更多的投资选择。
巴菲特始终认为，一个经营良好、具有长期竞争力的企业，其内在价值是稳定且不断增长的。当市场回调时，优质企业的股票价格可能会受到市场整体情绪的影响而下跌，但企业的内在价值并未改变。从长期来看，股价最终会回归到企业的内在价值水平。因此，回调为投资者提供了以低于企业内在价值的价格买入股票的机会，从而在未来获得更高的投资回报。
光刻机投资逻辑已找到！
广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。这一政策的出台，显示出政府对半导体产业关键设备的重视和支持，光刻机作为芯片制造的核心设备，自然受到市场关注，相关企业有望在政策支持下获得更多的发展机遇和资源，从而推动了光刻机板块的上涨。
近年来，中国在光刻机技术领域持续投入研发，不断取得突破。如工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中提到的氟化氩光刻机等技术突破。这些突破增强了市场对国内光刻机产业发展的信心，投资者预期国内光刻机企业的市场份额和盈利能力将逐步提升，进而推动了板块股价上涨。
国际上光刻机技术也在不断演进，一些新技术的出现或者研发进展的消息，可能会引发市场对光刻机行业未来发展的乐观预期。例如光刻机龙头企业阿斯麦（ASML）的技术研发动态和业务发展情况，对全球光刻机市场的预期有着重要影响，其相关信息的变化也可能间接影响到国内光刻机板块的走势。
半导体行业整体处于复苏的趋势中，随着人工智能、物联网、5G等新兴技术的快速发展，对芯片的需求持续增长。而光刻机是芯片制造的关键设备，芯片需求的增加必然会带动光刻机需求的增长，投资者看好光刻机行业的未来发展前景，从而推动了板块股价的上涨。
全球范围内晶圆厂的扩产计划不断增加，这将带动对光刻机等半导体设备的需求。新建晶圆厂需要大量的光刻机设备，为光刻机企业带来了更多的订单和业务机会，市场对光刻机企业的业绩增长预期提高，促使股价上涨。
机构：国内企业技术上不断突破，光刻胶领域国产替代空间巨大
中信证券认为，我国在光刻机以及半导体量/检测设备自主可控需核心光学系统达到国际一流水平，目前我国头部光学厂商已具备一定工业级超精密光学加工能力，随着国内半导体行业快速发展、设备自主可控比例提升，半导体设备光学系统具有巨大的国产替代空间。从国产替代的角度来看，国内半导体行业的发展将推动光刻机以及相关光学系统的国产替代进程加速，这为投资者提供了投资机会。国内头部光学厂商在不断提升自身能力的过程中，有望在这一领域取得更大的市场份额，其投资价值也会逐渐凸显。
光刻机是什么
光刻机是制造芯片的核心装备。光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。前道光刻机用于芯片的制造,后道光刻机主要用于封装测试。光刻胶是光刻机研发的重要材料,也是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
光刻机有哪些优势？
光刻机在半导体制造中发挥着至关重要的作用，具有显著的特征。光刻机能够以极高的精度将微小的电路图案复制到硅片上，这一过程是集成电路制造的核心技术。它集合了电子科学、计算机科学、通信技术和机械制造等多学科交叉知识，使用的曝光光源波长不断缩短，从高压汞灯的G线和I线发展到极紫外光源（EUV），使得集成电路的特征尺寸不断缩小。现代光刻机采用先进的控制技术，如精密的对准系统和测量校准过程，确保加工的精确性，并优化曝光方式，提高光刻胶敏感度，实现高吞吐量的芯片生产。光刻机特征推动了集成电路技术的发展，使芯片制造工艺不断进步，满足市场对高性能、低成本电子产品的需求。随着技术的不断进步，光刻机提升芯片性能、缩小尺寸、降低功耗和成本方面将继续发挥关键作用。
光刻机产业链如何分布？
光刻机产业链的分布广泛，从上游的原材料供应和关键组件制造，到中游的光刻胶制造和光刻机系统集成，再到下游的应用领域和终端市场。上游产业链涉及光刻胶的基础化工原料和光刻机的核心部件，如光学镜头、光源和双工件台。
中游产业链包括将原材料加工成不同应用的光刻胶产品，以及将零件组件组装成完整的光刻机，这需要精密光学、运动控制和微环境控制等技术。
下游产业链则涵盖光刻机和光刻胶在芯片制造、封装测试、电路设计等环节的应用，服务于消费电子、汽车电子、航空航天、军工和显示面板等多个行业。
光刻机相关技术发展将影响哪些领域？
光刻机相关技术的发展对多个关键领域产生深远影响。在半导体制造中，光刻技术是实现微小电路图案转移的核心，其进步直接影响集成电路的性能、尺寸和成本。医疗设备领域中，光刻技术用于制造高精度传感器和生物芯片，影响医疗诊断和治疗技术的发展。科研领域利用光刻技术制作高精度实验样品和设备。航空航天领域中，光刻技术制造高精密导航和通信设备。汽车电子领域中，光刻技术用于制造ADAS和自动驾驶相关芯片。军事和国防领域中，光刻技术制造高可靠性电子设备和传感器。绿色能源领域中，光刻技术提高太阳能电池的转换效率。光刻机技术的持续创新对推动电子信息产业的技术进步和产业升级具有重要意义。
光刻机市场潜力如何？
中信证券研报认为，光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时，美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。产业本土化趋势下，制造环节先行，认为国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
中航证券认为，光刻机作为壁垒最高、最稀缺的半导体设备，有望获得最高的溢价。光刻是芯片制造的核心工艺，占芯片制造1/2的时间+1/3的成本，光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，同时也是国内最“卡脖子”的环节。国内半导体先进制程的自主可控，光刻机攻坚势在必行。2023年ASML设备收入219亿欧元，产品相关支出为106亿欧元，以此测算，上游零部件成本占比约48%。海关数据统计，2023年国内半导体用光刻机进口金额约87.4亿美元，若供应链实现全国产替代，对应上游零部件市场空间约300亿元，考虑现有存量光刻设备的备件更换，市场空间有望进一步增大。举国之力下，光刻机产业化将逐步推进，零部件投资先行，重视光刻机产业链的投资机会。
浙商证券认为，光刻机是半导体设备国产化“最后一块拼图”，前进方向明确，当前大多数国产前道设备已进入先进工艺节点，光刻机先进突破具备确定性。当前全球半导体供应链仍处于分化的趋势，海外光刻机零部件获取的难度持续提升，尽管国内有提前储备光刻机，但并不会影响国产光刻机零部件供应链突破的步伐。
11月1日，A股三大指数呈现出震荡调整的态势。当日收盘之时，上证指数下跌了0.24%，深成指的跌幅达到1.28%，创业板指更是下挫1.88%，而北证50指数的跌幅则高达9.61%。从全市场来看，超过4300只个股都处于下跌状态。自9月底以来，光刻机概念在市场中表现突出，涨幅较为显著。那么，今天我们就来详细剖析一下光刻机的投资逻辑。
市场回调是机会
市场回调会使股票的估值水平下降，市盈率、市净率等估值指标变得更具吸引力。巴菲特擅长寻找那些具有安全边际的投资机会，即股票价格低于其内在价值的幅度较大。回调使得市场上出现更多这样具有安全边际的股票，为巴菲特提供了更多的投资选择。
巴菲特始终认为，一个经营良好、具有长期竞争力的企业，其内在价值是稳定且不断增长的。当市场回调时，优质企业的股票价格可能会受到市场整体情绪的影响而下跌，但企业的内在价值并未改变。从长期来看，股价最终会回归到企业的内在价值水平。因此，回调为投资者提供了以低于企业内在价值的价格买入股票的机会，从而在未来获得更高的投资回报。
光刻机投资逻辑已找到！
广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。这一政策的出台，显示出政府对半导体产业关键设备的重视和支持，光刻机作为芯片制造的核心设备，自然受到市场关注，相关企业有望在政策支持下获得更多的发展机遇和资源，从而推动了光刻机板块的上涨。
近年来，中国在光刻机技术领域持续投入研发，不断取得突破。如工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中提到的氟化氩光刻机等技术突破。这些突破增强了市场对国内光刻机产业发展的信心，投资者预期国内光刻机企业的市场份额和盈利能力将逐步提升，进而推动了板块股价上涨。
国际上光刻机技术也在不断演进，一些新技术的出现或者研发进展的消息，可能会引发市场对光刻机行业未来发展的乐观预期。例如光刻机龙头企业阿斯麦（ASML）的技术研发动态和业务发展情况，对全球光刻机市场的预期有着重要影响，其相关信息的变化也可能间接影响到国内光刻机板块的走势。
半导体行业整体处于复苏的趋势中，随着人工智能、物联网、5G等新兴技术的快速发展，对芯片的需求持续增长。而光刻机是芯片制造的关键设备，芯片需求的增加必然会带动光刻机需求的增长，投资者看好光刻机行业的未来发展前景，从而推动了板块股价的上涨。
全球范围内晶圆厂的扩产计划不断增加，这将带动对光刻机等半导体设备的需求。新建晶圆厂需要大量的光刻机设备，为光刻机企业带来了更多的订单和业务机会，市场对光刻机企业的业绩增长预期提高，促使股价上涨。
机构：国内企业技术上不断突破，光刻胶领域国产替代空间巨大
中信证券认为，我国在光刻机以及半导体量/检测设备自主可控需核心光学系统达到国际一流水平，目前我国头部光学厂商已具备一定工业级超精密光学加工能力，随着国内半导体行业快速发展、设备自主可控比例提升，半导体设备光学系统具有巨大的国产替代空间。从国产替代的角度来看，国内半导体行业的发展将推动光刻机以及相关光学系统的国产替代进程加速，这为投资者提供了投资机会。国内头部光学厂商在不断提升自身能力的过程中，有望在这一领域取得更大的市场份额，其投资价值也会逐渐凸显。
光刻机是什么
光刻机是制造芯片的核心装备。光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。前道光刻机用于芯片的制造,后道光刻机主要用于封装测试。光刻胶是光刻机研发的重要材料,也是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
光刻机有哪些优势？
光刻机在半导体制造中发挥着至关重要的作用，具有显著的特征。光刻机能够以极高的精度将微小的电路图案复制到硅片上，这一过程是集成电路制造的核心技术。它集合了电子科学、计算机科学、通信技术和机械制造等多学科交叉知识，使用的曝光光源波长不断缩短，从高压汞灯的G线和I线发展到极紫外光源（EUV），使得集成电路的特征尺寸不断缩小。现代光刻机采用先进的控制技术，如精密的对准系统和测量校准过程，确保加工的精确性，并优化曝光方式，提高光刻胶敏感度，实现高吞吐量的芯片生产。光刻机特征推动了集成电路技术的发展，使芯片制造工艺不断进步，满足市场对高性能、低成本电子产品的需求。随着技术的不断进步，光刻机提升芯片性能、缩小尺寸、降低功耗和成本方面将继续发挥关键作用。
光刻机产业链如何分布？
光刻机产业链的分布广泛，从上游的原材料供应和关键组件制造，到中游的光刻胶制造和光刻机系统集成，再到下游的应用领域和终端市场。上游产业链涉及光刻胶的基础化工原料和光刻机的核心部件，如光学镜头、光源和双工件台。
中游产业链包括将原材料加工成不同应用的光刻胶产品，以及将零件组件组装成完整的光刻机，这需要精密光学、运动控制和微环境控制等技术。
下游产业链则涵盖光刻机和光刻胶在芯片制造、封装测试、电路设计等环节的应用，服务于消费电子、汽车电子、航空航天、军工和显示面板等多个行业。
光刻机相关技术发展将影响哪些领域？
光刻机相关技术的发展对多个关键领域产生深远影响。在半导体制造中，光刻技术是实现微小电路图案转移的核心，其进步直接影响集成电路的性能、尺寸和成本。医疗设备领域中，光刻技术用于制造高精度传感器和生物芯片，影响医疗诊断和治疗技术的发展。科研领域利用光刻技术制作高精度实验样品和设备。航空航天领域中，光刻技术制造高精密导航和通信设备。汽车电子领域中，光刻技术用于制造ADAS和自动驾驶相关芯片。军事和国防领域中，光刻技术制造高可靠性电子设备和传感器。绿色能源领域中，光刻技术提高太阳能电池的转换效率。光刻机技术的持续创新对推动电子信息产业的技术进步和产业升级具有重要意义。
光刻机市场潜力如何？
中信证券研报认为，光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时，美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。产业本土化趋势下，制造环节先行，认为国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
中航证券认为，光刻机作为壁垒最高、最稀缺的半导体设备，有望获得最高的溢价。光刻是芯片制造的核心工艺，占芯片制造1/2的时间+1/3的成本，光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，同时也是国内最“卡脖子”的环节。国内半导体先进制程的自主可控，光刻机攻坚势在必行。2023年ASML设备收入219亿欧元，产品相关支出为106亿欧元，以此测算，上游零部件成本占比约48%。海关数据统计，2023年国内半导体用光刻机进口金额约87.4亿美元，若供应链实现全国产替代，对应上游零部件市场空间约300亿元，考虑现有存量光刻设备的备件更换，市场空间有望进一步增大。举国之力下，光刻机产业化将逐步推进，零部件投资先行，重视光刻机产业链的投资机会。
浙商证券认为，光刻机是半导体设备国产化“最后一块拼图”，前进方向明确，当前大多数国产前道设备已进入先进工艺节点，光刻机先进突破具备确定性。当前全球半导体供应链仍处于分化的趋势，海外光刻机零部件获取的难度持续提升，尽管国内有提前储备光刻机，但并不会影响国产光刻机零部件供应链突破的步伐。
